使用 MMC 功能块实现分离器控制
以下示例说明了使用 MMC 功能块控制分离器的方法。请参见“模块多变量控制 (MMC)”部分的 MMC 功能块分离器配置示例。
项目 | 说明 |
PV1 | 塔顶（较为重要） |
PV2 | 塔底（较不重要） |
PV1 的第一个主动 CV | CV1（回流比） |
PV1 的第二个主动 CV | CV3（压力设置点） |
PV1 的第三个主动 CV | CV2（蒸汽流量） |
PV2 的第一个主动 CV | CV2 |
PV2 的第二个主动 CV | CV3 |
PV2 的第三个主动 CV | CV1 |
TargetCV | CV3（如有可能，压力应保持恒定） |
CV3Target | 60%（压力范围的 60%） |
MMC 会计算 CV1、CV2 以及 CV3，以确保按照以下重要性顺序达成控制目标：
- 控制 PV1，使其达到 SP1（始终认为 PV1 比 PV2 重要）
- 控制 PV2，使其达到 SP2
- 控制 CV3，使其达到目标值
将 CV1 选为 PV1 的最主动的控制，将 CV2 选为 PV2 的最主动的控制。如果 CV1 或 CV2 饱和，或者进入手动模式，控制变量会使用 CV3 将 PV1 和 PV2 保持在设置点。
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